高低溫沖擊氣流儀系統滿足半導體行業苛刻溫度測試需求

2025年8月22日新聞中心行業新聞晶圓級溫度測試解決方案芯片溫控測試平臺1440

　　在半導體等高精度行業的產品測試中，高低溫沖擊氣流儀是評估元件在苛刻溫度變化下性能穩定性的關鍵設備。其核心價值在于通過準確的氣流控制技術，實現測試環境溫度的快速切換，模擬產品在實際應用中可能遭遇的溫度驟變場景，為產品可靠性驗證提供數據支撐。

　　氣流生成系統是高低溫沖擊氣流儀的基礎，其功能是為后續溫度調節提供穩定、足量的氣流源。設備通常采用壓縮氣體作為初始氣源，壓縮氣體需經過預處理環節，去除其中的油分、水分和顆粒物等雜質。這一過程通過多級過濾裝置實現，先利用預過濾器減少大顆粒雜質，再通過過濾器將過濾精度提升至微米級以下，同時借助干燥組件將氣體控制在較低水平，避免雜質或水分在后續低溫環節結冰，影響氣流純度與設備運行穩定性。經過預處理的潔凈氣體，會進入緩沖罐進行壓力穩定，確保氣流輸出壓力波動維持在較小范圍，為后續溫度調節提供平穩的氣流基礎。

　　溫度調節模塊是實現高低溫沖擊的核心，需同時具備快速制冷與加熱的能力，以滿足測試對溫度驟變的需求。制冷環節采用復疊式制冷技術，通過多組壓縮機與換熱器的協同工作，將制冷劑壓縮、冷凝、膨脹、蒸發過程分階段完成，逐步降低氣流溫度。在低溫生成過程中，制冷劑在蒸發器內與潔凈氣流進行熱交換，通過控制制冷劑的流量與蒸發壓力，準確調節氣流降溫幅度，可實現從常溫至低溫度的快速過渡。加熱環節則采用直接加熱方式，通過內置的加熱元件對氣流進行即時加熱，加熱元件的功率輸出由控制系統根據目標溫度動態調整，確保氣流能在短時間內達到設定高溫值。

　　氣流輸送與分布系統負責將調節至目標溫度的氣流準確輸送至測試區域，并保證測試空間內溫度均勻性。設備采用定制化的氣流噴嘴設計，噴嘴布局根據測試區域大小與形狀進行優化，確保氣流能均勻覆蓋被測元件表面。同時，通過調節噴嘴的氣流出口角度與流速，控制氣流在測試區域內的流動形態，避免局部氣流死角或湍流產生，防止被測元件不同部位出現溫度差異。在氣流輸送管路設計上，采用低導熱系數的材料，并進行保溫處理，減少管路與環境之間的熱交換，確保到達測試區域的氣流溫度與設定溫度一致。

　　閉環控制系統是保障快速溫變測試精度與穩定性的關鍵，通過實時監測與動態調節，實現對氣流溫度、壓力、流量等參數的準確把控。系統內置多個高精度傳感器，溫度傳感器實時采集測試區域氣流溫度與被測元件表面溫度，壓力傳感器監測氣流輸送壓力，流量傳感器記錄氣流輸出流量。

　　此外，設備的安全保護系統也為穩定運行提供保障。系統設置過溫保護、過壓保護、氣流斷流保護等多重安全機制，當監測到溫度超出安全范圍、壓力異常升高或氣流斷流時，會立即觸發預警信號，并自動切斷相關功能模塊的運行，防止設備損壞或測試樣品受損。

高低溫沖擊氣流儀通過氣流生成、溫度調節、氣流輸送與閉環控制的協同工作，實現了快速溫變測試的準確開展。各系統環節的設計與協同，不僅滿足了半導體等行業對苛刻溫度測試的需求，也為產品可靠性評估提供了穩定、準確的測試環境。